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邓晓 副教授博导 邮箱:18135@tongji.edu.cn 联系方式: 邮箱：18135@tongji.edu.cn 1110490dengxiao@tongji.edu.cn；
办公电话：021-65987815. |
（1）2007-9至2011-6, 美高梅, 应用物理学, 学士；
（2）2014-8至2016-7, 美国国家标准技术研究院（NIST）, 光学计量, 客座研究员（Guest Researcher）/联合培养博士；
（3）2011-9至2016-12, 美高梅, 光学, 博士。
（1）2016-12至2018-12, 美高梅, 航空航天与力学学院, 博士后；
（2）2018-12至2021.12, 美高梅, 59599aa美高梅, 助理教授，硕导；
（3）2022.01至今，美高梅, 59599aa美高梅, 副教授，博导。
本科生课程《普通物理》；
本科生课程《物理实验》。
面向先进纳米制造、晶圆光刻、惯性导航、精密重力测量等领域对超精密纳米计量光栅的需求，应用原子光刻技术、软X射线干涉光刻技术、多层膜光栅技术等，开展光栅、线宽等标准物质研制及纳米级长度测量及应用工作。具体研究方向包括：（1）纳米长度标准物质研制；（2）皮米级精密微位移测量；（3）计算纳米测量技术；（4）MOEMS超精密加速度计。
作为项目负责人主持了国家重点研发计划项目1项（担任首席科学家）、基金委面上项目1项、基金委青年项目1项。
作为课题负责人承担了上海张江科创办重大项目课题1项、国防科工局技术基础项目课题1项。
近五年主要研究成果：（1）长度准确性在0.001nm量级的纳米长度标准物质；（2）角度准确性在0.001°量级的纳米角度标准物质；（3）光栅刻线密度高达4700线/mm的自溯源光栅干涉仪。所研制光栅获批国家一级标准物质2项、国家二级标准物质2项。共发表SCI论文18篇（含一作/通讯共13篇）；申请中国发明专利6项（授权3项）；申请美国发明专利2项；完成软件著作权登记4项；在国际学术会议作口头报告2次。
课题组链接：https://ipoe.tongji.edu.cn/jkyjy/kyfx/gxjlcs.htm
2021年中国科协第六届青年托举人才
2021年美高梅“优秀班主任”
一、获批国家标准物质4项，获批计量校准规范2项
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序号 |
名称 |
编号 |
类型 |
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1 |
一维铬纳米光栅标准物质 |
GBW13982 |
国家一级标准物质 |
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2 |
一维硅纳米光栅标准物质 |
GBW13983 |
国家一级标准物质 |
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3 |
二维铬纳米光栅标准物质 |
GBW（E）130838 |
国家二级标准物质 |
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4 |
多结构硅纳米线宽 标准物质 |
GBW（E）130744 |
国家二级标准物质 |
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5 |
激光衍射法反射光栅 校准规范 |
JJF 1647-2022 |
国家计量技术规范 |
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6 |
微纳米线间隔标准样板 校准规范 |
JJF（沪）4001-2021 |
地方计量技术校准规范 |
二、申请美国发明专利2项，申请中国发明专利7项（授权3项）
| 序号 |
专利名称 |
类型 |
状态 |
| 1 |
Method for Manufacturing Grating Reference Materials Having a Self-traceability |
发明 （美国专利） |
申请 |
| 2 |
System for Precision Displacement Measurement Based on Self-Traceable Grating Interference |
发明 （美国专利） |
申请 |
| 3 |
一种新型二维原子光刻栅格结构的制备方法 |
发明 |
授权 |
| 4 |
一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置 |
发明 |
授权 |
| 5 |
一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法 |
发明 |
授权 |
| 6 |
一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统 |
发明 |
申请 |
| 7 |
基于扫描原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法 |
发明 |
申请 |
| 8 |
一种基于拼接原子光刻的大面积自溯源光栅制备方法 |
发明 |
申请 |
| 9 |
一种基于自溯源光栅的极紫外光刻胶质量 检测装置和方法 |
发明 |
申请 |
三、近五年来代表性论文：
(1) Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication, Nanomanufacturing and Metrology, 2022, 179–187, Xiao Deng ;Wen Tan; Zhaohui Tang; Zichao Lin; Xinbin Cheng; Tongbao Li
(2) A new type of nanoscale reference grating manufactur ed by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope, Ultramicroscopy, 2021, 226: 113293(1-5),Xiao Deng; Gaoliang Dai; Jie Liu; Xiukun Hu; Detlef Bergmann; Jun Zhao; Renzhong Tai; Xia oyu Cai; Yuan Li; Tongbao Li; Xinbin Cheng
(3) Realization of orthogonality in two-step laser focused Cr atomic deposition, Optik, 2019, 185: 423- 428, Deng, Xiao; Liu, Jie; Zhu, Li; Zhang, Baowu; He, Pengfei; Cheng, Xinbin; Li, Tongbao
(4) Natural square ruler at nanoscale, APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2018, 11(7): 075201(1-4), Xiao Deng; Jie Liu; Li Zhu; Pengfei He; Xinbin Cheng; Tongbao Li
(5) Optimization of Nano-Grating Pitch Evaluation Method Based on Line Edge Roughness Analysis, Measurem ent Science Review, 2017, 17(6): 264-268, Chen Jie; Liu Jie; Wang Xingrui; Zhang Longfei; Deng Xiao; Cheng Xinbin; Li Tongbao
本课题组长期欢迎本科生、研究生、博士后及青年教师的加入，如有兴趣请联系18135@tongji.edu.cn。
